而光刻技术又是硅基器件微型化的关键技术。

只有通过光刻，才能在硅晶圆上精确定义微米级结构，实现复杂的电路布局。

德州仪器从1957年开始将光刻技术应用在硅晶圆上，取代了过去手工掩模和化学蚀刻的方法。

在这个时间点，德州仪器的分辨率已经能做到5-10微米了。

华国秉持着一个原则，紧盯硅谷的进展，尤其像德州仪器、ibm这类和阿

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